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        中海日报：“2005年1月1日上午十点，中芯公司90nm芯片生产线正式投产，相关首长受邀参加此次投产庆祝仪式，据了解，中芯公司此次生产的芯片性能，达到了国际领先水平，填补了我国芯片制造产业的一片空白……”

        明荣看着这份报纸上出现的大首长，心里一片苦涩。

        中芯的成熟制程都达到90nm纳米了，这是英特尔2003年的工艺水平。中芯已经追上国际一流玩家，而他的光刻机才还没成形。

        中海微电子和中芯相隔不远，大首长来视察中芯却过他的公司门口不入。

        这很说明问题。

        叶风寄给他看，分明是要提点他。

        要他继续努力，早出成绩啊。

        而另外一份资料，明荣看后心情更是一落千丈。

        这是一份国外的报纸，“国际巨头仍在前进，荷兰阿斯麦公司发展浸没式湿式光刻机获得成功，第一台湿式将于2005年6月底交付积电公司。据了解，由于光在水中波长更短，湿式光刻机将打破芯片制程65nm的极限，继续延续摩尔定律，此外，阿斯麦公司还将应用磁悬浮驱动减少工作面震动、反射镜代替透镜技术、真空腔体的极紫外光学系统在新光刻机上面……”

        差距太大了！

        明荣长吐一口气，中海微电子光刻机的研发，刚刚进入纳米级零点几微米的精度，人家国外公司就打破65纳米级了，这精度相差了好几代。

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